ルイジ・オノラ「Absences」

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会 期
20230304日 -  20230319
開催時間
15時00分 - 20時00分
月 – 金:15:00 – 20:00, 土・日:13:00 – 20:00
休み
火曜日
入場料
無料
展覧会の撮影
作品の販売有無
販売有
子連れ
この情報のお問合せ
info@contrast-tokyo.com
イベントURL
情報提供者/投稿者
開催場所
CONTRAST
住所
〒151-0063 東京都
渋谷区富ヶ谷1-49-4-1F & B1F
最寄り駅
代々木公園
電話番号
03-6427-5227

詳細

参加クリエイター

展覧会内容

この度、3月4日(土)から3月19日(日)まで、東京を拠点に活動するフランス人ビジュアルアーティスト、ルイジ・オノラの個展「Absences」をCONTRASTにて開催致します。

オノラは武蔵野美術大学にて彫刻を学んだ後、現在は同大学で講師として務めながら、オブジェと3DCGをメディアとしたアートの研鑽に努め、コンピューターグラフィックを駆使して新たな彫刻のフォルムや動き、手法を探求。「現実と仮想」、「オブジェとデータ」、「美とある種の不気味さ」と様々な要素を組み合わせ、相互にリンクさせたインスタレーション、彫刻、映像作品を制作しています。

Apple、Adidas、L’Oréal、The New York Times等のブランドや、Moses Sumney、Son Lux's Ian Chang、Micka Luna、Variérasといったミュージシャンとの仕事でも知られています。

本展では、プリント、AR (拡張現実)、映像という異なる3つのメディアで構成されたデジタルスカルプチャーの新作シリーズを発表致します。プリントやARを通して、実際には存在しないデジタルスカルプチャーの体感を可能とし、映像作品ではそのフォルムが形成されていく一連の変化により、具象的なトルソーが溶けては消え、トランスフォームする過程から、「Absences (不在)」の概念を探求します。
また、会場ではARマーカーのプリント販売も行い、別空間で読み込む事により、空間と身体の関係にも問いを投げかけます。

これまでSNSを中心に活動してきたオノラの作品とリアルに対峙できる貴重な展示となります。是非この機会に、現実に存在するデジタルスカルプチャーによって埋め尽くされた「Absences (不在)」な世界をお楽しみ下さい。

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